Positioniersysteme mit höchster Präzision und Schnelligkeit sind eine Voraussetzung für eine Vielzahl von Anwendungen in der Hochtechnologie, wie beispielsweise Rastersondenmikroskopie, Nanomesstechnik, sowie Lithographiesystemen in der Halbleiterproduktion.
Eine typische Anforderung für Präzisionspositioniersysteme ist dabei ein sehr großer dynamischer Bereich von 5 bis zu 9 Größenordnungen, was eine besondere Herausforderung für den Design solcher Systeme darstellt.